Efecto del tiempo de fotocurado sobre la resistencia adhesiva y el grado de conversión de adhesivos universales: resultados preliminares

Resumo

Objetivos: Evaluar el efecto de diferentes tiempos de fotopolimerización sobre la resistencia adhesiva en microcizallamiento y el grado de conversión monomérica de dos sistemas adhesivos universales.

Metodología: Se analizaron 2 adhesivos universales (Single Bond Universal – 3M ESPE y All Bond Universal – BISCO), aplicados mediante autocondicionamiento en dentina. La fotopolimerización se realizó con lámpara LED (VALO - Ultradent) durante 10 o 40 segundos, conformando cuatro grupos experimentales. La resistencia adhesiva se evaluó mediante microcizallamiento inmediato en diez terceros molares por grupo (MTS SANS). El grado de conversión monomérica se determinó por espectroscopía infrarroja (FTIR-ATR), midiendo antes y después del fotocurado. Para el análisis estadístico se realizó ANOVA de dos vías con una significancia de α=0,05.

Resultados: En microcizallamiento, SBU 10s presentó valores significativamente inferiores a todos los demás grupos (p<0,05), los cuales no difirieron entre sí. En grado de conversión, ABU no mostró diferencias entre tiempos de fotocurado, mientras que SBU 40s obtuvo el valor más alto, seguido de SBU 10s, siendo ambos grupos ABU los de menor conversión y sin diferencias entre sí. Estas diferencias podrían vincularse a la distinta composición de cada sistema, incluyendo sus monómeros base y sistemas de fotoiniciación.

Conclusiones: Los datos preliminares sugieren que la respuesta al tiempo de fotocurado es material-dependiente, con influencia tanto en el grado de conversión como en la resistencia adhesiva. El aumento del tiempo de fotocurado no resultó perjudicial para ningún grupo y podría ser beneficioso para algunos sistemas adhesivos. Futuros estudios deberán ampliar el número de materiales evaluados e incorporar envejecimiento artificial para determinar la relevancia clínica de estos hallazgos.